光电子微纳制造与测试平台Optoelectronic Micro&nano Fabrication and Characterizing Facility 平台简介光电子微纳制造工艺平台是武汉光电国家研究中心建设的,向全社会开放的公共服务实验平台,位于光电国家实验室E区,...
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回复(2) 2016-09-29 15:49 来自版块 - 新闻
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leeclimb[表格](2017-10-11 09:50)
leeclimb电化ECV [图片] 采用电化学腐蚀的方法,对半导体Wafer材料进行深度-载流子浓度的测试。 主要应用范围为GaAs及InP系材料,对GaN材料腐蚀较慢。 最佳测试范围:载流子浓度量级10~10 型号:dage WAFER PROFILER CVP 21 ...(2016-09-29 15:49)

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